上海岩征生产的光化学高压反应釜,使用温度300℃内,使用压力:10mpa,适用于光化学高压反应、二氧化碳(CO2)还原、二氧化碳(CO2)还原制甲醇(CH3OH)、二氧化碳(CO2)还原制甲烷(CH4)、氮氧化物(Nox)的还原降解、甲醛的高压光催化降解等领域
设计参数:
加热功率 :1000W
设计温度: 300℃
使用温度: 50~250℃(50ML 使用 200℃)
控温精度: ±1℃ (无强放热吸热情况下)
设计压力: 150bar
爆破压力 :125bar
使用压力 ≤100bar (注 1)
标准材质: 316L (注 2)
搅拌速度: 150~1000r/min
特点:
支持多工位对比实验;
具备探底管取样功能;
支持催化剂过滤;
LCD 真彩色全触摸操作界面;
铸铜加热器,均热性高,传热快;
支持保温计时和启动计时,双计时模式;
具备安全联锁功能,超温超压报警;
支持悬浮搅拌,避免搅拌子底部磨损和催化剂磨损;